光刻（kè）、刻蝕、化學氣相沉積（CVD）等工藝中（zhōng）需要高純度真空環境。
提供穩定的（de）真空條件以支持芯片製造的高精度要求。

高能（néng）物理： 用於粒子加速（sù）器（qì）和探測器中的真空係統。
表麵分析： 適用於（yú）掃描電子顯微鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（jìng）（TEM）等設備。
質譜（pǔ）分析： 保障分析設備的高真空環境。

衛（wèi）星模擬： 在真空環境（jìng）中模擬太空條件（jiàn）。
空間技術測試： 用於測試航天器部件的真空適應性。

在醫療器械（xiè）生產中提供無汙（wū）染的真空環境，例如磁共振成像（MRI）設備。
支持生物樣品的真空冷凍幹（gàn）燥等工藝。

鍍膜技術： 包括光（guāng）學鍍膜、裝飾鍍膜（mó）和功能性薄膜的（de）生產。
顯示麵板： OLED和LCD顯（xiǎn）示器的真空蒸鍍工藝。

核聚（jù）變研究： 提供（gòng）托卡馬克反應堆或慣性約束核聚變裝置的高真空條件。
太陽能技術： 支持高效薄膜光伏電池製（zhì）造。

垃圾焚燒尾氣分析（xī）： 檢測環（huán）境汙（wū）染物的高真空采樣。
納米（mǐ）技（jì）術： 為新材料（liào）研究和生產提（tí）供超高真空環境。